特許
J-GLOBAL ID：200903025521451236
光学素子の成形方法及び成形装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027134
公開番号（公開出願番号）：特開平9-221331
出願日： 1996年02月14日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】【目的】 成形型の酸化を抑えるための不活性ガスの導入の際、不活性ガスの流れによって下型上に載せた光学素子材料が移動する虞れのない光学素子の成形方法及び成形装置を提供すること。【構成】 上型(22)と下型(26)からなる成形型の下型上に光学素子材料(4)を載せたのち少なくとも成形型を閉空間(CS)内に位置させ、その後この閉空間内に不活性ガスを導入し、続いて光学素子材料を加熱し、この加熱により軟化した光学素子材料を上型と下型で押圧することにより光学素子を成形する成形方法において、閉空間内に不活性ガスを導入するとき、光学素子材料に当たる際の不活性ガスの流速を毎秒3m以下とした光学素子の成形方法。
請求項（抜粋）：
上型と下型からなる成形型の上記下型上に光学素子材料を載せたのち少なくとも上記成形型を閉空間内に位置させ、その後この閉空間内に不活性ガスを導入し、続いて上記光学素子材料を加熱し、この加熱により軟化した上記光学素子材料を上記上型と下型で押圧することにより光学素子を成形する成形方法において、上記閉空間内に不活性ガスを導入するとき、光学素子材料に当たる際の不活性ガスの流速を毎秒3m以下としたことを特徴とする光学素子の成形方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 11/00 Z
, C03B 11/08
