特許
J-GLOBAL ID：200903025528299111
処理液塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295409
公開番号（公開出願番号）：特開平8-150359
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【目的】 基板表面に処理液を塗布する際に、基板の載置姿勢に応じて適切な範囲で塗布を行う処理液塗布装置の提供にある。【構成】 ノズル20をX方向に移動させ(ステップS20)、ギャップセンサ27をY方向に移動させながら(ステップS21)、ギャップセンサ27によるギャップデータを検出する(ステップS22)。ギャップセンサ27のギャップデータに基づいて角型基板Wの基板姿勢を演算し(ステップS24)、レジスト液塗布処理時にノズル20をY方向へ移動させて、処理液による塗布面の側縁が角型基板Wの側縁と平行になるようにする。
請求項（抜粋）：
角型基板の表面に所定の処理液を塗布するための処理液塗布装置において、角型基板を保持する基板保持部と、基板保持部に保持された角型基板の表面に沿った第1の方向に相対移動しながらその角型基板表面に処理液を供給する処理液供給部を有する処理液供給手段と、第1の方向と直交する第2の方向における処理液供給部の位置を調整する供給位置調整手段と、基板保持部に保持された角型基板の姿勢を検出する基板姿勢検出手段と、処理液供給部の両端が基板保持部に保持された角型基板の側縁と平行に相対移動させられるように、基板姿勢検出手段の検出結果に基づいて供給位置調整手段を制御する供給位置制御手段と、を備えることを特徴とする処理液塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 5/00 101
, B05C 5/00
, G02F 1/13 101
, G03F 7/16 501
, H01L 21/027
