特許

J-GLOBAL ID：200903025528687618

プラズマ処理方法及び装置

発明者： 稲畑 健英 ,  久保田 三郎 ,  北井 崇博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-125455
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316040
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年10月29日
要約：

【要約】【課題】 高周波電源を用いたプラズマ処理装置において、プロセス条件の変化やチャンバ構造によっては、インピーダンスマッチングを正常に行ったとしても、真空チャンバとインピーダンス整合器の間の電送経路間で無視できない電力損失を生じる。【解決手段】 プラズマ放電中の負荷側の電極2とインピーダンス整合器3間の電送経路におけるインピーダンスを測定することの可能なインピーダンス測定装置6を設け、その結果をインピーダンス制御装置7にフィードバックすることで電送経路間に生じたインダクタンス成分を最小限に抑え、かつ電力損失を最小限に抑える。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置において、インピーダンス整合器の出力側から電極間までの電送経路間のインピーダンスを測定するインピーダンス測定工程と、この測定した結果をインピーダンス制御装置にフィードバックして前記電送経路間のインダクタンス成分を調整するインピーダンス制御工程とを有することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ,  H01L 21/3065 ,  H03H 7/40 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  H03H 7/40 ,  H05H 1/46 R ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

Fターム (19件)：

4G075AA30 ,  4G075AA42 ,  4G075AA61 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075DA03 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F004CB07 ,  5F045AA09 ,  5F045BB08 ,  5F045EH19 ,  5F045GB15