特許
J-GLOBAL ID:200903025531241345
大気圧でのグロー放電プラズマによる表面洗浄装置および洗浄方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥山 尚男 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-536771
公開番号(公開出願番号):特表平11-507990
出願日: 1996年06月03日
公開日(公表日): 1999年07月13日
要約:
【要約】ワークピース表面は、大気圧での定常かつ一様なグロー放電プラズマをワークピース表面上で生成させることによって洗浄される。この大気圧での定常かつ一様なグロー放電プラズマは、低周波RFイオントラッピング機構によって生成されることが好ましい。この表面洗浄を効果的にするプラズマは、ほぼ1気圧、またはそれ以下もしくはそれ以上の気圧における、空気中または他のガス中で作り出される。
請求項(抜粋):
ワークピースの表面から汚染物質を取り除いて清潔な基板とする方法であって、 1気圧(760mmHg)またはその周りの気圧において、定常かつ一様なグロー放電プラズマを生成するステップと、 前記汚染物質を有する前記ワークピース表面を所定の時間、前記生成されたプラズマに露出させて該汚染物質を取り除き、前記清潔な基板を与えるステップとを含むこと特徴とするプラズマ洗浄方法。
IPC (5件):
C23G 5/00
, B08B 7/00
, C23F 4/00
, H01L 21/304 645
, H01L 21/3065
FI (5件):
C23G 5/00
, B08B 7/00
, C23F 4/00 A
, H01L 21/304 645 C
, H01L 21/302 N
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