特許

J-GLOBAL ID：200903025537847121

トリクロロシランの製造方法および製造装置

発明者： 立野 昇 ,  竹末 久幸 ,  佐藤 春美
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-044930
公開番号（公開出願番号）：特開2009-227577
出願日： 2009年02月26日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：

【課題】塩化工程から分離したポリマー、あるいは多結晶シリコン製造工程の排ガスから分離したポリマーを分解してトリクロロシランに転換する製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】多結晶シリコン製造プロセスにおいて発生される高沸点クロロシラン類含有物(ポリマー)を、塩化水素と混合して分解炉に導入し、450°C以上、好ましくは450°C以上〜700°C以下の加熱下でポリマーと塩化水素を反応させてトリクロロシランを製造することを特徴とし、好ましくは、ポリマーに対して塩化水素を10〜30質量%混合した混合物を分解炉に導入して分解するトリクロロシランの製造方法および製造装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

多結晶シリコン製造プロセスにおいて発生する四塩化珪素よりも高沸点のクロロシラン類(高沸点クロロシラン類と云う)含有物(ポリマーと云う)を、塩化水素と混合して分解炉に導入し、450°C以上の加熱下でポリマーと塩化水素を反応させてトリクロロシランを製造することを特徴とするトリクロロシランの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/08

FI (1件)：

C01B33/08

Fターム (9件)：

4G072AA14 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH07 ,  4G072HH40 ,  4G072JJ14 ,  4G072RR01 ,  4G072RR11 ,  4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 多結晶シリコンの製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-503550   出願人：ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション