特許
J-GLOBAL ID:200903025541062236
原盤露光方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-052452
公開番号(公開出願番号):特開2002-251796
出願日: 2001年02月27日
公開日(公表日): 2002年09月06日
要約:
【要約】【課題】目的とする最適な光ディスク、光磁気ディスク又は磁気ディスクを、後工程の検査無しで製造可能とした原盤露光方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、露光用レーザ光を、対物レンズを通して原盤上に形成された感光剤に照射して露光して露光跡を形成する原盤露光方法であって、検査用のレーザ光を前記露光跡に照射して該露光跡の反射率の違いに基づく露光跡の精度を検出し、該検出された露光跡の精度に基いて前記露光用レーザ光のパワー若しくはドーズ量を調整することを特徴とする。
請求項(抜粋):
露光用レーザ光を、対物レンズを通して原盤上に形成された感光剤に照射して露光して露光跡を形成する原盤露光方法であって、検査用のレーザ光を前記露光跡に照射して該露光跡の反射率の違いに基づく露光跡の精度を検出し、該検出された露光跡の精度に基いて前記露光用レーザ光のパワー若しくはドーズ量を調整することを特徴とする原盤露光方法。
IPC (3件):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 501
, G11B 7/0045
FI (3件):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 501
, G11B 7/0045 B
Fターム (14件):
2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097BB01
, 2H097CA17
, 2H097LA20
, 5D090AA01
, 5D090BB01
, 5D090CC01
, 5D090DD03
, 5D090EE03
, 5D090KK03
, 5D121AA02
, 5D121BB26
, 5D121BB38
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