多孔質材料の製造方法、多孔質膜の製造方法、高分子電解質の製造方法、多孔質材料、多孔質膜、高分子電解質膜、及び固体高分子型燃料電池

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：平木祐輔 , 石井貞次 , 藤田節 , 関口鶴彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-216743
公開番号（公開出願番号）：特開2009-045911
出願日： 2007年08月23日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：

【課題】レーザーアブレーション加工による高分子基材への穿孔を、従来よりより小さな孔径でより高アスペクト比でおこない、緻密な孔開け加工を簡便に行う。また、特に、高分子フィルムや高分子シートに開けた緻密な多数の貫通孔を利用した複合電解質膜を提供する。【解決手段】高分子フィルム又は高分子シートに、レーザーを照射させ、該高分子フィルム又は高分子シートの厚さ方向に複数の貫通細孔を生じさせる工程と、該高分子フィルム又は高分子シートに穿孔された孔の孔径を収縮させて該孔径を縮める工程と、該貫通細孔に電解質生成モノマーを充填させ、次いで該電解質生成モノマーを重合させて複合高分子電解質膜とする工程とを含む高分子電解質膜の製造方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

高分子基材を穿孔する工程と、該高分子基材に穿孔された孔の孔径を収縮させて該孔径を縮める工程とを含む多孔質材料の製造方法。

IPC (8件)：

B29C 67/20 , H01M 8/02 , H01M 8/10 , H01B 13/00 , H01B 1/06 , C08J 9/00 , C08J 9/36 , B29C 61/02

FI (8件)：

B29C67/20 A , H01M8/02 P , H01M8/10 , H01B13/00 Z , H01B1/06 A , C08J9/00 Z , C08J9/36 , B29C61/02

Fターム (45件)：

4F074AA02 , 4F074AA39 , 4F074AA41 , 4F074AA48 , 4F074AA64 , 4F074AA71 , 4F074AA76 , 4F074AA86 , 4F074AA87 , 4F074AD04 , 4F074AD21 , 4F074AG20 , 4F074CB91 , 4F074CC48Y , 4F074CD04 , 4F074CD20 , 4F074CE04 , 4F074CE50 , 4F074CE93 , 4F074DA49 , 4F210AA16 , 4F210AB25 , 4F210AG01 , 4F210AG20 , 4F210AH03 , 4F210AR06 , 4F210AR12 , 4F210RA01 , 4F210RC02 , 4F210RG04 , 4F210RG11 , 4F212AG20 , 4F212UA11 , 4F212UW31 , 5G301CD01 , 5G301CE01 , 5H026AA06 , 5H026BB00 , 5H026BB03 , 5H026CX02 , 5H026CX04 , 5H026CX05 , 5H026EE17 , 5H026EE18 , 5H026HH05

引用特許：

出願人引用 (6件)

イオン交換膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-010848 出願人：住友電気工業株式会社
高分子電解質膜の製造方法、およびそれを用いた高分子型燃料電池
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-034701 出願人：東レ株式会社
広いイオン交換容量を有するフッ素系高分子イオン交換膜及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-153926 出願人：日本原子力研究所

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