特許
J-GLOBAL ID：200903025554778753
リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107647
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290259
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】 ペリクル膜であるガラス板が自重により撓んで露光光路にズレが起き、リソグラフィーの解像度に悪影響をおよぼすことのない高性能なペリクル膜とペリクルフレームから成るペリクルを提供する。【解決手段】 リソグラフィー用ペリクルのペリクル膜としてガラス板を使用するペリクルにおいて、ガラス板に予め反りを形成し、該ガラス板の凸面が上方になるようにペリクルフレームに貼り付けて成るリソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法。
請求項（抜粋）：
リソグラフィー用ペリクルのペリクル膜としてガラス板を使用するペリクルにおいて、ガラス板に予め反りを形成し、該ガラス板の凸面が上方になるようにペリクルフレームに貼り付けて成ることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
Fターム (2件)：
引用特許：
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