特許
J-GLOBAL ID：200903025573098143
フォトイメージング用の改良された組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
頓宮 孝一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103411
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188593
出願日： 1992年04月23日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【目的】 改良されたフォトイメージ化可能なカチオン重合性のエポキシベースの塗布材料の提供。【構成】 この材料は、エピクロヒドリンとビスフェノールAとの縮合生成物ポリオール樹脂約10ないし80重量パーセント;エポキシ化された8官能性ビスフェノールAホルムアルデヒドノボラック樹脂約20ないし90重量パーセント;および難燃性を必要とするならば、テトラブロモビスフェノールAのエポキシ化されたグリシジルエーテル約35ないし50重量パーセント、とから本質的に構成されるエポキシ樹脂系を包含する。この樹脂系に対して、化学放射線への露光の際に前記エポキシ樹脂系の重合を開始し得るカチオン性光開始剤を、樹脂の100重量部当り約0.1ないし約15重量部添加し;この系はさらにフィルムの厚み2.0ミル(0.05mm)に対し330〜700nmの領域内で0.1未満の光吸収をもち、そしてチクソトロピー剤としてシリカの効果的量を含有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
約40,000ないし約130,000の分子量を有するエピクロヒドリンとビスフェノールAとの縮合生成物であるポリオール約20ないし約60重量%;約4,000ないし約10,000の分子量を有するエポキシ化されている8官能性ビスフェノールAホルムアルデヒドノボラック樹脂約35重量%まで;および約60°ないし約110°Cの軟化点をもちかつ約600ないし約2,500の分子量を有するテトラブロモビスフェノールAのエポキシ化されたグリシジルエーテル約35ないし約80重量%とから本質的に構成されるエポキシ樹脂系;および化学放射線への露光の際に前記エポキシ樹脂系の重合を開始しうるカチオン性光開始剤の約0.1ないし約15重量部;ここで前記した樹脂系と光開始剤とは溶剤中で処置されるものとし;そして前記の樹脂系と光開始剤とともに溶剤中に分散されるチクソトロピー剤として約20%までの効果的量のシリカ;とからなるイメージング系であって、前記のイメージング系をフィルムに乾燥させたとき、フィルムの厚み1ミル(0.025mm)当り2.0未満の光吸収率を光開始剤の光活性域内に有することをさらに特徴とする、感光性のカチオン重合可能なエポキシベースのイメージング系。
IPC (5件)：
G03F 7/038 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/028
, G03F 7/075 501
, H05K 3/28
