特許

J-GLOBAL ID：200903025601715030

微細パターンを有する金型の製造方法およびその金型を用いた光学素子の製造方法

発明者： 小林 伸二 ,  染矢 和昭 ,  樋口 政廣 ,  前納 良昭 ,  山口 淳
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (2件)： 鳥居 洋 ,  松山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-293480
公開番号（公開出願番号）：特開2007-098839
出願日： 2005年10月06日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】この発明は、転写が良好に行える微細で且つ緻密な凹凸形状パターンを有する金型の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】この発明の金型の製造方法は、基板上に微細パターンを形成し、その微細パターン先端部分に二酸化シリコン膜33を形成して先端部に太幅部分を設ける。このパターンが形成された基板3上に金型用金属4を被着させた後、基板3を取り除き、先端部がオーバーハングされた太幅部33を有する微細パターンを備えた金型を形成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に微細パターンを形成し、その微細パターン先端部分に膜を形成して先端部に太幅部分を設け、このパターンが形成された基板上に金型用金属を被着させた後、前記基板を取り除き、先端部がオーバーハングされた微細パターンを有する金型を形成することを特徴とする微細パターンを有する金型の製造方法。

IPC (4件)：

B29C 33/38 ,  B29C 45/37 ,  B29C 33/42 ,  G02B 1/11

FI (4件)：

B29C33/38 ,  B29C45/37 ,  B29C33/42 ,  G02B1/10 A

Fターム (14件)：

2K009AA01 ,  2K009AA12 ,  2K009CC21 ,  2K009DD15 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD07 ,  4F202CD22 ,  4F202CD24 ,  4F202CD30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭62-96902号公報