光ファイバグレーティング、光ファイバ、光合分波モジュール、分散調整モジュールおよび光伝送システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：長谷川芳樹 , 塩田辰也 , 寺崎史朗 , 柴田昌聰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-233672
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077529
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】短波長損失の影響が充分に抑制され生産性が優れた光ファイバグレーティングを提供する。【解決手段】光ファイバグレーティング100は、光ファイバ110のコア領域111に回折格子113が形成されたものである。光ファイバ110は、石英ガラスを主成分とするものであって、光軸中心を含むコア領域111にGeO2が添加されており、このコア領域111を取り囲んでクラッド領域112が設けられている。クラッド領域112に対するコア領域111の比屈折率差Δnが4.5%以上とされており、比屈折率差Δnが5.0%以上である。コア領域111の外径2aおよび比屈折率差Δnそれぞれが適切に設計されていて、光ファイバ110の2mカットオフ波長λCがブラッグ波長λBより短く、2mカットオフ波長λCとブラッグ波長λBとの差が30nm以上150nm未満とされている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

コア領域およびクラッド領域を有する光ファイバの前記コア領域において長手方向に沿って屈折率変調によるブラッグ型の回折格子が形成された光ファイバグレーティングであって、前記クラッド領域に対する前記コア領域の比屈折率差が4.5%以上であり、前記光ファイバの2mカットオフ波長が前記回折格子のブラッグ波長より短く、前記2mカットオフ波長と前記ブラッグ波長との差が30nm以上150nm未満である、ことを特徴とする光ファイバグレーティング。

IPC (4件)：

G02B6/10 , C03C13/04 , G02B6/00 , G02B6/16

FI (4件)：

G02B6/10 C , C03C13/04 , G02B6/00 356A , G02B6/16

Fターム (17件)：

2H050AB05X , 2H050AB10Y , 2H050AC03 , 2H050AC09 , 2H050AC14 , 2H050AC71 , 2H050AC73 , 2H050AC75 , 2H050AC82 , 2H050AC84 , 2H050AD03 , 4G062AA06 , 4G062BB02 , 4G062LA03 , 4G062LB08 , 4G062MM04 , 4G062NN01

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