特許
J-GLOBAL ID:200903025611425420
高圧処理装置、高圧処理装置への供給方法および高圧処理装置の保護方法
発明者:
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-373823
公開番号(公開出願番号):特開2000-189781
出願日: 1998年12月28日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 安全性・耐食性に優れた高圧反応容器を有する高圧処理装置およびその高圧反応容器の保護方法を提供すること。【解決手段】 第1の固体貯留槽101と、第2の固体貯留槽103と、高圧反応容器200内に反応媒体を供給する反応媒体供給手段309と、第1の密封機構と第2の密封機構との間に第1の流体を供給する第1の流体供給機構と、第2の密封機構と高圧反応容器との間に第2の流体を供給する第2の流体供給機構と、第1の密封機構閉鎖時に第2の密封機構を開放するとともに第1の流体と第2の流体を制御して、第1の密封機構と第2の密封機構との間の圧力と、第2の密封機構と高圧反応容器との間の圧力とが、高圧反応容器に向けて漸減するような圧力勾配を形成する圧力勾配形成手段とを有する高圧処理装置。
請求項(抜粋):
第1の固体貯留槽と、前記第1の固体貯留槽に第1の連結管を介して接続された第2の固体貯留槽と、前記第2の固体貯留槽に第2の連結管を介して接続された高圧反応容器と、前記高圧反応容器内に反応媒体を供給する反応媒体供給手段と、前記第1の連結管と前記第2の連結管にそれぞれ介挿された第1の密封機構と第2の密封機構と、前記第1の密封機構と前記第2の密封機構との間に第1の流体を供給する第1の流体供給機構と、前記第2の密封機構と前記高圧反応容器との間に第2の流体を供給する第2の流体供給機構と、前記第1の密封機構閉鎖時に前記第2の密封機構を開放するとともに前記第1の流体と前記第2の流体を制御して、前記第1の密封機構と前記第2の密封機構との間の圧力と、前記第2の密封機構と前記高圧反応容器との間の圧力とが、前記高圧反応容器に向けて漸減するような圧力勾配を形成する圧力勾配形成手段とを有することを特徴とする高圧処理装置。
IPC (4件):
B01J 3/02
, B01J 3/03
, B01J 3/04
, B01J 4/00 101
FI (4件):
B01J 3/02 E
, B01J 3/03 A
, B01J 3/04 H
, B01J 4/00 101
Fターム (9件):
4G068AA02
, 4G068AB01
, 4G068AB17
, 4G068AB22
, 4G068AC01
, 4G068AC20
, 4G068AE01
, 4G068AF07
, 4G068AF12
前のページに戻る