特許

J-GLOBAL ID：200903025621784011

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 堤 聖晴 ,  舩木 克典
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-185580
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145955
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 各モノマーユニットが偏在せず、分子間や分子内で組成分布の小さい高分子化合物であって、しかも合成コストを低減できるフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用高分子化合物は、(A)ラクトン環を含有する炭素数6〜20の脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、(B)炭素数6〜20の脂環式炭化水素基を含有し且つ酸の作用により脱離可能な基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)極性の置換基を有する炭化水素基又は酸素原子含有複素環基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られる。

請求項（抜粋）：

(A)ラクトン環を含有する炭素数6〜20の脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、(B)炭素数6〜20の脂環式炭化水素基を含有し且つ酸の作用により脱離可能な基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)極性の置換基を有する炭化水素基又は酸素原子含有複素環基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られるフォトレジスト用高分子化合物。

IPC (7件)：

C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  C08J 3/14 CEY ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/027 ,  C08L 33:04

FI (7件)：

C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  C08J 3/14 CEY ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  C08L 33:04 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (30件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096LA30 ,  4F070AA32 ,  4F070CA20 ,  4F070CB11 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11 ,  4J100BC09 ,  4J100BC53 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-285762   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-133513   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-315265   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平4-136089
  

審査官引用 (1件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-285762   出願人：富士写真フイルム株式会社