特許
J-GLOBAL ID：200903025645240764
バイナリーオプティクス及びそれを用いたレーザ加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-004662
公開番号（公開出願番号）：特開平10-197709
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 ビーム形状が円形で強度分布が山形のレーザ光からビーム形状が直線形状をなし、強度分布が均一なレーザビームを効率よく得ることが可能なバイナリーオプティクス、または集光光学系を提供すること及びこれらを用いて効果的なレーザ加工を可能とするレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 素子内の各位置に於ける回折格子の配列方向とピッチとが、入射光の形状及び強度分布と、変換したい出射光の直線形状及び均一な強度分布に対応させて設計されたバイナリーオプティクス及びこれを用いた光学系により、所望の直線形状を有するレーザビームを容易に、かつエネルギーの損失なく変換することができることから、レーザ加工プロセスを有利にすると共に、効率の高い加工が可能になる。更に、かかる構成のレーザ装置は、レーザ加工プロセスを有利にすると共に、効率の高い加工が可能になる。
請求項（抜粋）：
中心部で強度が高く点対称のビームを、一軸方向に均一な強度分布に変換するべく前記ビームの光軸を中心として該光軸に直交する面に形成された回折格子からなるバイナリーオプティクスに於て、当該バイナリーオプティクス上のある点Pの位置に於ける回折格子の配列方向は、前記点対称の強度分布と、変換したい出射光の強度分布とから当該バイナリーオプティクス上に求められる点Qと前記点Pとを結ぶ方向であり、前記点Qは、当該バイナリーオプティクス上に光軸を原点とし変換したい均一な強度分布の方向をx軸とする直角座標を定義し、前記点Pを通りy軸に平行な直線でビームの断面を二つの領域に分割し、各々の領域に於ける強度の積分値の比で均一な強度分布の幅を内分する点のx座標を点Qのx座標とし、点Pのy座標を点Qのy座標とするように決められており、当該バイナリーオプティクスの前記回折格子にピッチpが、線分PQの長さをd,光の波長λ、当該バイナリーオプティクスからの変換したい均一強度分布を得る位置までの距離hとして、【数1】p=λ√(1+h2/d2)として表されることを特徴とするバイナリーオプティクス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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