膜形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177691
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011608
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】プラズマ輸送時に粗大粒子を除去する磁気フィルタを改善して、そのプラズマ輸送効率を高くする。【解決手段】この膜形成装置は、真空アーク蒸発源12と成膜室2との間に、プラズマ22を輸送すると共に当該プラズマ22中から粗大粒子を除去する磁気フィルタ24aを備えている。この磁気フィルタ24aは、湾曲した輸送管26と、この輸送管26の内面近傍を覆う複数のカスプ磁場を形成する複数の永久磁石34とを備えて成る。

請求項（抜粋）：

基体を収納して真空排気される成膜室と、真空アーク放電によって陰極を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、この真空アーク蒸発源によって生成したプラズマを磁場によって湾曲させて粗大粒子を除去して前記成膜室内の基体の近傍に導く磁気フィルタとを備える膜形成装置において、前記磁気フィルタが、湾曲した輸送管と、この輸送管の内面近傍を覆う複数のカスプ磁場を形成する複数の永久磁石とを備えて成ることを特徴とする膜形成装置。

Fターム (6件)：

4K029BC02 , 4K029BD03 , 4K029BD05 , 4K029CA03 , 4K029CA13 , 4K029DD06

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