特許
J-GLOBAL ID：200903025665923167
X線マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-335120
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165198
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、X線マスクの製造工程を簡略化することを目的とするものである。【構成】 メンブレン材薄膜2aのエッチング工程及びシリコンウエハ1のバックエッチング工程の前に、シリコンウエハ1を支持枠4に接合して、支持枠4をエッチングマスクとして利用するようにした。
請求項（抜粋）：
メンブレン材薄膜が両面に成膜されたウエハを支持枠に接合した後、前記支持枠をマスクとして前記メンブレン材薄膜のエッチングを行うことを特徴とするX線マスクの製造方法。
IPC (2件)：
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