特許

J-GLOBAL ID：200903025672405538

露光方法

発明者： 太田 和哉 ,  益子 久
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-146280
公開番号（公開出願番号）：特開平8-339957
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】 例えばTTR方式のアライメントセンサでEGA方式のアライメントを行う場合に、ダイ・バイ・ダイ方式でのシーケンスを利用すると共に、サンプルショットの選択を容易に行う。【構成】 レチクルとウエハのショット領域との位置ずれをTTR方式のアライメントセンサにより検出して、十分なアライメント信号が得られたショット領域についてレチクルステージを微動して位置決めし、露光を行うと共にレチクルステージの位置を計測する(ステップ101〜107)。十分なアライメント信号が得られたシ全部のショット領域に関するレチクルステージの移動量を用いてEGAパラメータを求める(ステップ110)。求めたEGAパラメータから未露光のショット領域の配列座標を求め、それに基づいて未露光のショット領域へ露光を行う(ステップ112)。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターン像で基板上の複数のショット領域のそれぞれを露光する露光方法において、前記基板上の複数のショット領域のうち、各ショット領域に付設される位置合わせ用マークを使って前記マスクのパターンとの位置合わせができないショット領域を除く全てのショット領域中の所定のそれぞれについて、当該ショット領域に付設された位置合わせ用マークを使って、当該ショット領域と前記マスクのパターンとの位置合わせを行って、前記パターン像で当該ショット領域を露光する第1工程と、該第1工程で露光されたショット領域のそれぞれについて得られる前記マスクパターンとの位置合わせデータに基づき前記基板上の未露光のショット領域のそれぞれを前記パターン像で露光する第2工程と、を有することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 525 W ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 A ,  H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 525 X