特許

J-GLOBAL ID：200903025686837368

スピン処理装置

発明者： 平川 忠夫 ,  古矢 正明
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050577
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248408
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：

【要約】【課題】 この発明は回転テーブルに対する半導体ウエハの供給や取り出しを簡単な構成で行なえるようにしたスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】 半導体ウエハ13を回転させて処理するスピン処理装置において、処理槽2と、この処理槽内に設けられ上記半導体ウエハを保持して回転駆動される回転テーブル9と、この回転テーブルの周囲を覆うとともに径方向に沿って揺動可能に設けられたカップ体21と、上記カップ体を径方向に揺動駆動しこのカップ体の揺動方向の下方側を上記回転テーブルに保持される半導体ウエハよりも下方に変位させるシリンダ38とを具備する。

請求項（抜粋）：

基板を回転させて処理するスピン処理装置において、処理槽と、この処理槽内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、この回転テーブルの周囲を覆うとともに径方向に沿って揺動可能に設けられたカップ体と、上記カップ体を径方向に揺動駆動しこのカップ体の揺動方向の下方側を上記回転テーブルに保持される基板よりも下方に変位させる駆動機構とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (2件)：

B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643

FI (2件)：

B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643 A

Fターム (13件)：

4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042DF09 ,  4F042DF28 ,  4F042DF29 ,  4F042DF32 ,  4F042DF33 ,  4F042DF35 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  4F042EB21