特許

J-GLOBAL ID：200903025693047321

表面矯正薄板保持装置、面調整手段及び向き調整手段

発明者： 佐藤 修三 ,  大鳥居 英 ,  末松 伸雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136775
公開番号（公開出願番号）：特開平10-112493
出願日： 1997年05月27日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウェハ2をその表面の向き、表面の凹凸を矯正して保持することができるようにする。【解決手段】 保持部(チャック)3と、ウェハ2の表面形状を測定する面測定手段1と、保持部3を部分的に上下せしめる複数の面矯正部5を有し各面矯正部5での独立した動作により保持部表面を変形する面調整手段4と、ウェハ2の表面の中心軸の傾斜角度とその向きを調整する向き調整手段(チルティング部)6とを有し、面測定手段1によるウェハ2の表面の中心軸の傾斜角度とその向き及び凹凸形状の測定をし、その測定結果に基づいて向き調整手段6、面調整手段4を制御することによりウェハ2の表面の中心軸の傾斜角度とその向き及び面形状を所定通りに矯正するようにしてなる。

請求項（抜粋）：

薄板を保持する保持部と、上記保持部上に保持された薄板の表面の面形状を測定する面測定手段と、上記保持部の下に位置し、保持部を部分的に上下せしめる複数の面矯正部からなり、各面矯正部での独立した動作により保持部表面と保持された上記薄板を変形することにより保持部表面上の上記薄板の表面を調整する面調整手段と、上記面調整手段の下側に位置して上記薄板の表面の中心軸の傾きを調整する向き調整手段と、を少なくとも有し、上記面測定手段による上記薄板の表面の中心軸の傾き及び形状の測定をし、その測定結果に基づいて上記向き調整手段、上記面調整手段を制御することにより薄板の表面の中心軸の傾き及び面形状を所定通りに矯正するようにしてなることを特徴とする薄板表面矯正保持装置

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 321

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/304 321 H ,  H01L 21/30 503 C