特許

J-GLOBAL ID：200903025702131268

マイクロ流体装置

発明者： デワ アンドリュー エス ,  セヴレイン クリストフ ジェイ ピー
出願人/特許権者： メムステック プロダクツ エル エル シー
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-515269
公開番号（公開出願番号）：特表平11-501379
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】ベーンポンプ、遠心ポンプ、歯車ポンプ、流量センサ、ピストンポンプ、ピストン弁、液圧モータ、ノズル、及びコネクタを含む広範囲の種々の装置を実現することができるように、微細製造技術を流体装置に適用するのを妨げている問題点を解決する。このような装置は非常に急峻な壁(例えば 100ミクロンの壁高さに対して 0.1 mm の振れ)、及び非常に緊密な公差を必要とする特徴を有する。この装置はセラミック、プラスチック、金属、及び磁気材料を含む種々の材料で造ることができる。好適な実施例では、犠牲LIGA法のようなX線リトグラフ技術を使用する。

請求項（抜粋）：

基板と、 少なくとも50ミクロンの深さを有する空所を画成して、前記基板上に微細に製造された装置本体と、 微細に製造された前記装置本体に協働して、閉じた室を画成するカバーと、 前記室内に流体を導入し、送出するため、前記室に流体連通する導入口と、送出口と、 前記導入口から送出口まで前記室を通る通路に関連して、前記装置本体に対し相対的に移動するよう、前記室内に移動可能に配置された微細に製造された動的部材とを具えることを特徴とする流体装置。