特許
J-GLOBAL ID:200903025704280937

セルシャッターおよびその使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-176859
公開番号(公開出願番号):特開平8-041629
出願日: 1994年07月28日
公開日(公表日): 1996年02月13日
要約:
【要約】【構成】 分子線結晶成長装置の分子線の通過および遮蔽に用いるセルシャッター29において、自動的にセルシャッター29の閉状態時にセルシャッター29を加熱せず、開状態時に加熱する加熱用ヒータ34を具備したことを特徴とするセルシャッター29から成る。【効果】 本発明によれば、セルシャッターの開状態時に、セルシャッターのヒータに通電し、セルシャッターの温度を上げ、付着金属を蒸発させ、シャッターの開閉の動作での付着金属の落下を防ぐ。このことにより、セルシャッターの熱反射板の反射効果の低減の防止、坩堝内の金属の汚染を防止する。また、シャッター閉時の蒸発金属をセルシャッターに付着させ、反射による坩堝内の蒸発金属の汚染を防止する。
請求項(抜粋):
分子線結晶成長装置の分子線の通過および遮蔽に用いるセルシャッターにおいて、自動的に前記セルシャッターの閉状態時に前記セルシャッターを加熱せず、開状態時に加熱する加熱用ヒータを具備したことを特徴とするセルシャッター。
IPC (3件):
C23C 14/24 ,  C30B 23/06 ,  H01L 21/203

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