特許

J-GLOBAL ID：200903025717554149

レーザ加熱装置

発明者： 小林 裕
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-252649
公開番号（公開出願番号）：特開平10-094892
出願日： 1996年09月25日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 光源に高出力半導体レーザを用いた加熱装置で、一度に大きな面積を均一に加熱することが可能なレーザ加熱装置を提供する。【解決手段】 高出力半導体レーザ1のレーザ光出射側に、コリメートレンズ2aとシリンドリカルレンズ2bで構成される光学系2を設けて、出射レーザ光の単一基本モードとなるNFP縦方向(垂直横モード)を目的とする長さまで拡大するとともに、多モードとなるNFP横方向を(水平横モード)を絞ってその強度分布を圧縮する、といったビーム整形を行うことで、長手方向の強度分布が均一な線状ビームを得る。

請求項（抜粋）：

高出力半導体レーザと、その出射レーザ光を整形するための光学系からなり、その光学系には、高出力半導体レーザから出射されたレーザ光を矩形状に集光するコリメートレンズと、コリメート光を集光するシリンドリカルレンズが設けられているとともに、そのシリンドリカルレンズは、円柱面の母線が上記半導体レーザのレーザ光出射端面での光強度分布の長手方向に対し90度回転した状態で配置されていることを特徴とするレーザ加熱装置。

IPC (6件)：

B23K 26/06 ,  B23K 1/005 ,  B23K 26/00 ,  G02B 27/09 ,  H05K 3/34 507 ,  H01S 3/00

FI (7件)：

B23K 26/06 E ,  B23K 1/005 D ,  B23K 26/00 Z ,  B23K 26/00 H ,  H05K 3/34 507 E ,  H01S 3/00 B ,  G02B 27/00 E