特許

J-GLOBAL ID：200903025725757423

界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法及びその処理装置

発明者： 雪田 篤 ,  吉川 凉三 ,  泉田 龍男 ,  西 高志 ,  服部 康雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立ニユークリアエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-037668
公開番号（公開出願番号）：特開平9-230094
出願日： 1996年02月26日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】処理装置をコンパクトにできかつ二次廃棄物を処理しやすい状態にする。【解決手段】界面活性剤を含む放射性廃液が充填された廃液収集タンク17内に活性炭を混合する。その後、放射性廃液を活性炭分離乾燥装置22内に供給して、活性炭を放射性廃液から分離する。活性炭が分離された廃液は、サンプルタンク23を介して外部環境に放出される。分離された活性炭は、活性炭分離乾燥装置22内で乾燥され、焼却炉31内に導かれて焼却される。【効果】分離された活性炭を乾燥するので、二次廃棄物となる活性炭を処理しやすい状態、すなわち焼却等による減容しやすい状態にすることができる。また、活性炭の放射性廃液からの除去、及び分離した活性炭の乾燥が、活性炭分離乾燥装置内で行われるので、放射性廃液の処理装置をコンパクト化できる。

請求項（抜粋）：

界面活性剤を含む放射性廃液を処理する方法において、前記界面活性剤を含む前記放射性廃液に活性炭を混合し、その後、前記放射性廃液を活性炭分離装置内に供給して前記活性炭を前記放射性廃液から分離し、前記分離された活性炭を前記活性炭分離装置内で乾燥させ、前記乾燥した活性炭が前記活性炭分離装置から排出されることを特徴とする界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法。

IPC (2件)：

G21F 9/12 501 ,  G21F 9/06 511

FI (2件)：

G21F 9/12 501 C ,  G21F 9/06 511 B