光学エレクトロウェッティング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊 , 野田久登 , 酒井將行 , 荒川伸夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-552910
公開番号（公開出願番号）：特表2009-525502
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：

本発明に係る光学エレクトロウェッティング装置は、導電性流体(5;101)及び非導電性流体(4;102)(流体は混ざり合わない)と、絶縁性基材(2,103)とを備え、該基材上で両流体が接触して三相界面を形成しており、該導電性流体(101)の存在下で基材(103)上にある非導電性流体(102)の固有の接触角(105)が0°〜約20°である。この装置は、可変焦点液体レンズ、光学絞り、光学ズームとすることができる。さらに本発明は、カメラ、携帯電話、内視鏡、又は歯科用ビデオカメラなどの装置に関し、該装置は、エレクトロウェッティング装置と、レンズを制御するための駆動装置又は電子手段とを備える。

請求項（抜粋）：

導電性流体(5;101)および非導電性流体(4;102)(前記両流体は混ざり合わない)と、絶縁性基材(2;103)とを備え、絶縁性基材上で両流体が接触して三相界面を形成しており、導電性流体(101)の存在下で絶縁性基材(103)上にある非導電性流体(102)の固有の接触角(105)が0°〜約20°である、光学エレクトロウェッティング装置。

IPC (5件)：

G02B 26/00 , G02B 3/12 , G02B 7/09 , G03B 9/02 , G02B 26/02

FI (5件)：

G02B26/00 , G02B3/12 , G02B7/11 P , G03B9/02 E , G02B26/02 H

Fターム (8件)：

2H051FA01 , 2H051FA60 , 2H080AA03 , 2H141MA09 , 2H141MB37 , 2H141MB43 , 2H141MC06 , 2H141MF02

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