特許
J-GLOBAL ID：200903025734975042
膜被覆物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037151
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209262
出願日： 1992年01月28日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 基体を高温に晒すことなくその表面に、当該基体の濡れ性を改善する酸化層を形成することができ、しかもその酸化層の厚みの制御が容易であり、それによって基体の表面に密着性の高い膜を形成することができる方法を提供する。【構成】 冷媒12が流されるホルダ10に基体2を取り付けて基体2を冷却しながら、イオン源14から酸素元素を含有するイオン16を引き出してそれを基体2の表面に照射する。その後、蒸発源20から所望の物質22を蒸発させてそれを基体2の表面に蒸着させて目的とする膜を形成する。
請求項（抜粋）：
基体の表面に膜を形成して膜被覆物を作る際に、当該膜の形成前、形成と同時または形成後に、基体を冷却しながらそれに向けて酸素元素を含有するイオンを照射することを特徴とする膜被覆物の製造方法。
IPC (2件)：
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