特許

J-GLOBAL ID：200903025745976628

研磨粒子及びその製造方法

発明者： 横井 紀昭 ,  山口 徳子
出願人/特許権者： 日本ミクロコーティング株式会社
代理人 (1件)： 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-312663
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080825
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】被研磨物表面を短時間で精度よく研磨できる研磨フィルム、及びこの研磨フィルムに使用する新規な構成の研磨粒子及びその製造方法を提供する。【解決手段】平均粒径0.1〜20μmの範囲にある母粒子11、及びこの母粒子11の表面に複数付着固定した、母粒子11(例えば、シリコン)よりも小径の平均粒径0.001〜0.5μmの範囲にある子粒子12(例えば、シリカ)から構成される、金属製又は非金属製の被研磨物表面を研磨するための研磨フィルム用の研磨粒子10、10′。

請求項（抜粋）：

平均粒径0.1〜20μmの範囲にある母粒子、及びこの母粒子よりも小径の平均粒径0.001〜0.5μmの範囲にある子粒子、から成り、前記子粒子が、前記子粒子又は前記母粒子の表面に形成した金属酸化物の膜を介して、前記母粒子の表面に複数付着固定した、研磨粒子。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 11/00

FI (3件)：

C09K 3/14 550 C ,  B24D 3/00 320 A ,  B24D 11/00 B

Fターム (10件)：

3C063AA03 ,  3C063AB07 ,  3C063BB01 ,  3C063BB20 ,  3C063BC03 ,  3C063BG01 ,  3C063BG08 ,  3C063BG22 ,  3C063EE01 ,  3C063EE10