特許

J-GLOBAL ID：200903025757868685

プラズマ処理装置

発明者： 高木 憲一
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-358713
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235677
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理装置において、安全性を向上し、プラズマの安定性、プラズマ処理の再現性を向上し、かつ、真空槽内壁の温度の制御によるプラズマの制御性を高める。【解決手段】壁部に電力導入窓11を含み、内壁の表面温度を調整する温度調整機構21を設けた真空容器12と、電力導入窓に対応して大気側に配置されるアンテナ18を含み、真空容器内でプラズマを発生するプラズマ生成機構と、真空容器内を減圧する排気機構と、真空容器内にガスを導入するガス導入機構と、真空容器内に配置され、基板17を保持する基板保持機構16を備えた誘導結合型プラズマ処理装置であり、電力導入窓は基板保持機構に対向する真空容器の平板状壁部(上壁部)に形成された隙間に設けられ、アンテナは電力導入窓の設置状態に対応し電力導入窓に沿って設けられる。

請求項（抜粋）：

壁部の一部に誘電体製の電力導入窓を含み、前記壁部の表面温度を所定温度に調整する温度調整機構を設けた真空容器と、前記電力導入窓に対応してその大気側に配置されるアンテナを含み、前記真空容器の内部でプラズマを発生するためのプラズマ生成機構と、前記真空容器の内部を減圧状態に保持する排気機構と、前記真空容器の内部に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記真空容器の内部に配置され、被処理基板を保持する基板保持機構を備えたプラズマ処理装置において、前記電力導入窓は、前記基板保持機構に対向する前記真空容器の平板状壁部に形成された隙間に設けられ、前記アンテナは、前記電力導入窓の設置状態に対応し前記電力導入窓に沿って配置されることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B