加熱装置、像加熱装置および画像形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-152212
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347030
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：

【要約】【課題】電磁誘導加熱方式の加熱装置、像加熱装置、および該像加熱装置を有する画像形成装置において、磁場発生手段の励磁コイルのフォーミングやフェライトコアの構成による発熱分布調節を不要にして電磁誘導発熱性部材の端部の熱ダレや非通紙部昇温を防止あるいは緩和した装置構成を提供すること。【解決手段】電磁誘導発熱部材1の表面に対して、?@.加工1aを行ない、表面の抵抗率を変化させることにより発熱分布を変化させる、?A.導電性物質をコーティングすることにより、渦電流の流れる領域の制御を行い所望の発熱分布を得る、?B.絶縁材からなるコーティングを施すことにより、磁場発生手段からのギャップを適正に設け所望の発熱分布を得る、?C.良熱伝導性部材をコーティングすることにより、通紙時の端部温度上昇を抑制する、?D.抵抗率の上昇係数の異なる部材のコーティングを施すことにより、所望の発熱分布を得る。

請求項（抜粋）：

磁場発生手段と、前記磁場発生手段の磁界の作用で電磁誘導発熱する部材と、前記電磁誘導発熱性部材と相互圧接して被加熱材のニップ部を形成する加圧部材を有し、前記電磁誘導発熱性部材に前記磁場発生手段の磁界を作用させ、電磁誘導発熱性部材の発熱で被加熱材を加熱する加熱装置であり、電磁誘導発熱部材の表面に加工を行い、表面の抵抗率を変化させた層を有する事により発熱分布を変化させる事を特徴とした加熱装置。

IPC (4件)：

H05B 6/14 , G03G 15/20 101 , G03G 15/20 109 , H05B 6/40

FI (4件)：

H05B 6/14 , G03G 15/20 101 , G03G 15/20 109 , H05B 6/40

Fターム (13件)：

2H033AA03 , 2H033AA30 , 2H033BA25 , 2H033BA27 , 2H033BA30 , 2H033BE06 , 2H033CA27 , 3K059AB19 , 3K059AC33 , 3K059AD05 , 3K059CD44 , 3K059CD52 , 3K059CD63

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