特許

J-GLOBAL ID：200903025769218619

基板の処理装置及び処理方法

発明者： 廣瀬 治道
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110622
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306226
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月28日
要約：

【要約】【課題】 この発明は剥離チャンバで処理された基板によって剥離液が剥離チャンバから持ち出されるのを防止した処理装置を提供することにある。【解決手段】 基板を処理液によって処理する処理装置において、上記基板を所定方向に搬送する搬送軸11に設けられた搬送ローラ12と、この搬送ローラによって搬送される上記基板が搬入されるととともにその基板を剥離液によって処理する剥離チャンバ4とを具備し、上記基板が剥離チャンバ4から搬出される際にこの基板を搬送方向前方側が後方側よりも高くなるよう傾斜させて基板上面に残留する処理液を除去する。

請求項（抜粋）：

基板を処理液によって処理する処理装置において、上記基板を所定方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段によって搬送される上記基板が搬入されるととともにその基板を処理液によって処理する処理チャンバと、上記基板が所定の処理チャンバから搬出される際にこの基板を搬送方向前方側が後方側よりも高くなるよう傾斜させて搬送する搬送高さ上昇手段と、を具備したことを特徴とする基板の処理装置。

IPC (4件)：

B65G 49/06 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

B65G 49/06 Z ,  B08B 3/02 C ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/68 A

Fターム (26件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  3B201AA01 ,  3B201AB14 ,  3B201AB33 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA18 ,  5F031GA53 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031LA15 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031NA09