特許
J-GLOBAL ID：200903025776846706
搬送方法及びその装置、露光方法及びその装置、並びにデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001009973
公開番号（公開出願番号）：WO2002-041375
出願日： 2001年11月15日
公開日（公表日）： 2002年05月23日
要約：
本発明では、基板Rの搬送中に、所定のガスが供給される空間内に基板Rを収容し、基板Rの表面に付着した異物又は基板Rの表面近傍の異物に所定の力を与えてその異物を基板Rの表面から離れさせ、基板Rの表面から離れた異物を所定のガスとともに空間の外に排出する。これにより、微小な異物の付着を防ぎ、搬送中の基板を清浄な状態に保つことができる。
請求項（抜粋）：
基板を搬送する搬送方法であって、
前記基板の搬送中に、所定のガスが供給される空間内に前記基板を収容する工程、
前記基板の表面に付着した異物又は前記基板の表面近傍の異物に所定の力を与えて前記異物を前記基板の表面から離れさせる工程、および
前記空間内に供給された前記所定のガスとともに前記基板の表面から離れた異物を前記空間外に排出する工程を具備する。
IPC (3件)：
H01L21/68
, G03F7/20
, H01L21/027
H01L21/68 A
, G03F7/20 502
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502J
, H01L21/30 503G
, H01L21/30 514D
, H01L21/30 516F
