フッ素処理装置および被処理物の表面処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-356149
公開番号（公開出願番号）：特開平10-182861
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】フッ素ガスの歩留まりを一層高めることが出来かつ一層安定した表面処理が出来るフッ素処理装置および当該フッ素処理装置を使用したプラスチック成形品などの被処理物の表面処理方法を提供する。【解決手段】フッ素処理装置は、フッ素ガス供給手段(1)から供給されたフッ素ガスを含む処理ガスが貯留される処理ガス調製槽(3)、被処理物を表面処理する処理槽(4)、当該処理槽から排出されたガス中のフッ酸を除去するフッ酸除去装置(5)を含み、フッ酸除去装置(5)によってフッ酸が除去されたガスを処理ガス調製槽(3)に返流可能に構成され、処理ガス調製槽(3)がフッ素ガス濃度の検出機構(33)を備え、フッ素ガス供給手段(1)が電解槽(11)を使用したフッ素ガス発生装置によって構成される。

請求項（抜粋）：

フッ素ガス供給手段から供給されたフッ素ガスを含む処理ガスが貯留される処理ガス調製槽と、当該処理ガス調製槽から供給された処理ガスによって被処理物を表面処理する処理槽と、当該処理槽から排出されたガス中のフッ酸を除去するフッ酸除去装置とを含み、前記フッ酸除去装置によってフッ酸が除去されたガスを前記処理ガス調製槽に返流可能に構成され、前記処理ガス調製槽がフッ素ガス濃度の検出機構を備え、かつ、前記フッ素ガス供給手段が電解槽を使用したフッ素ガス発生装置によって構成されていることを特徴とするフッ素処理装置。

前のページに戻る