特許

J-GLOBAL ID：200903025783896670

プラズマ処理装置

発明者： 佐藤 忠 ,  市村 智 ,  川久保 幸雄 ,  三宅 潔 ,  吉川 利満
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177601
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007098
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 試料を処理するためのガスの圧力に対する制約をなくすこと。【解決手段】 ガス導入口18からガスを導入してアノード24とカソード22間にアーク放電を発生させてプラズマを生成し、このプラズマから電子ビーム34を引き出し、この電子ビーム34を減圧室12を介して反応室14内に導き、反応室14内のガスに電子ビーム34を照射してプラズマ50を生成し、このプラズマ50により基板48に処理を施す。

請求項（抜粋）：

電子ビームを発生する電子ビーム源と、試料とともにガスを収納しガスが満たされた雰囲気中に前記電子ビームを導入してガスを電離しこのガスの電離によりプラズマを生成して試料に処理を施す反応室と、前記電子ビーム源と前記反応室との間に配置されて両者を分離するとともに前記電子ビーム源からの電子ビームを前記反応室に導く電子ビーム伝送路を形成する分離手段とを備えてなるプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

H01L 21/31 C ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 Z

Fターム (24件)：

5F004BA03 ,  5F004BA11 ,  5F004BA20 ,  5F004BB01 ,  5F004BB17 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004DA22 ,  5F004DA24 ,  5F045AA08 ,  5F045AA14 ,  5F045AB02 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC17 ,  5F045AE01 ,  5F045BB16 ,  5F045DP04 ,  5F045EB02 ,  5F045EH16 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19