特許

J-GLOBAL ID：200903025794372428

洗浄剤組成物

発明者： 篠原 明 ,  牛山 広俊 ,  木村 明
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128465
公開番号（公開出願番号）：特開平6-313189
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】【構成】 (A)炭素数1〜6のアルコールのアルキレンオキシド付加物、(B)炭素数8〜25のアルコールまたはアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物および(C)化1の第4級アンモニウムハイドライド類(テトラメチルアンモニウムハイドライド等)を含有する洗浄剤組成物。【効果】 浸透性の向上により洗浄性能が飛躍的に改善され、洗浄剤濃度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を緩和することができ、また、スプレー圧、撹拌力、超音波照射強度・時間等の洗浄時に必要な物理力を低減できる。多量の加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗浄性能が向上し、複雑な構造をもつ精密機器部品に対する洗浄性能も向上した。【化1】(R3〜R6:水素または炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはアルケニル基)

請求項（抜粋）：

下記の(A),(B)および(C)成分を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。(A) 化1の一般式(I)で表わされる化合物【化1】R1-O-(A1O)n-H ...(I)(R1 :炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはフェニル基A1 :炭素数2〜4のアルキレン基n:1〜6)(B) 化2の一般式(II)で表わされる化合物【化2】R2-O-(A2O)m-H ...(II)(R2 :炭素数8〜25のアルキル基、アルケニル基、アルキルフェニル基またはアルケニルフェニル基A2 :炭素数2〜4のアルキレン基m:5〜25)(C) 化3の一般式(III) で表わされる第4級アンモニウムハイドライド類【化3】(R3〜R6:水素または炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはアルケニル基)

IPC (7件)：

C11D 1/72 ZAB ,  B23K 1/00 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/60 ,  C23G 5/032 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32