特許
J-GLOBAL ID：200903025808084196
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157372
公開番号（公開出願番号）：特開平8-019752
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】 電子部品等に接着剤などのペースト状の材料を高精度に転写する際に、基準となるベース上に所定の厚さの薄膜を精度良く形成することができる薄膜形成装置を提供することを目的とする。【構成】 基準ベース1上より薄膜形成された古い材料を除去し両わきにかき分けるスキージ5、それを真ん中にかきよせるプレート6、それを集めて撹拌させて薄膜を形成する膜形成板4、これらをモータ8により回転する軸9に取り付けられたアーム7に取り付け、この軸9を基準ベース1に対しマイクロメータヘッド17によりテーパブロック14を介して上下させることにより基準ベース1と膜形成板4との間に所定のギャップを作り、そこに材料を投入して回転軸9を回転させることにより基準ベース1上にペースト状の材料の薄膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
ペースト状の材料を塗布する平面部を有したベースと、このベースの平面部に垂直方向に挿通して回転自在に取り付けられた回転軸と、この回転軸にアームを介して結合され上記ベースの平面部上を回転軸の回転に伴なって旋回し、ベースの平面部上に塗布された材料を撹拌して所定の厚みに整える膜形成板と、この膜形成板と上記ベースの平面部との間隙を調整するために上記回転軸を昇降させる昇降部からなる薄膜形成装置。
IPC (4件)：
B05C 11/02
, F01D 25/34
, H01L 21/52
, H05K 3/38
