特許

J-GLOBAL ID：200903025816351870

多層膜成膜方法、反射鏡及び露光装置

発明者： 白石 雅之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-125071
公開番号（公開出願番号）：特開2004-331998
出願日： 2003年04月30日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】反射率を向上させることのできる多層膜の成膜方法及び多層膜反射鏡を提供する。【解決手段】低圧放電の回転マグネットカソード(RMC)式スパッタ装置10において、スパッタガスとしてXeガスをチャンバ11内に導入し、圧力を約0.08Paに設定する。回転マグネットカソード17A、17Bに電源23A、23Bから所定の電力(一例で200W)を交互に投入するとともに同カソードを交互に回転させ、ターゲット(Mo)19及びターゲット(Si)21をスパッタリングし、Mo層とSi層を基板27上に交互に成膜して50層対の多層膜を成膜する。これにより、垂直入射に換算して68%程度のEUV反射率の多層膜を作製できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

屈折率の異なる少なくとも二種類以上の物質からなる膜を周期的に積層してなる多層膜の製造方法であって、 Kr、Xeを含む圧力範囲0.006Pa〜0.08Paのスパッタガスの存在下でスパッタリングすることにより前記物質からなる膜を成膜することを特徴とする多層膜成膜方法。

IPC (3件)：

C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L21/027

FI (3件)：

C23C14/14 G ,  C23C14/34 M ,  H01L21/30 531A

Fターム (14件)：

4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA11 ,  4K029BA35 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD03 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC45 ,  4K029EA03 ,  4K029JA08 ,  5F046GB01