特許
J-GLOBAL ID：200903025819652480
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-005664
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207067
出願日： 1997年01月16日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 170〜220nmの露光光に対して透明性が高く且つ光分解性、酸発生効率が良く、高感度で保存安定性の優れた、170〜220nmの露光光を利用したリソグラフィーにおいて優れた遠紫外線露光用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用により分解するアルカリ可溶性基の保護基を分子内に有する樹脂が特定の構造の単量体の繰り返し単位と分子内に脂肪族環状炭化水素部位を有する単量体の繰り返し単位を含有する共重合体を含有する170〜220nmの波長の遠紫外線露光用感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
酸の作用により分解するアルカリ可溶性基の保護基を分子内に有する樹脂、および露光により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、該酸の作用により分解するアルカリ可溶性基の保護基を分子内に有する樹脂が下記一般式[I]で表される単量体の繰り返し単位と分子内に脂肪族環状炭化水素部位を有する単量体の繰り返し単位を含有する共重合体であることを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 :水素原子およびメチル基から選択された置換基を表す。R2 〜R4 :各々アルキル基(互いに結合して環を形成してもよい)よりなる群から選択された置換基を表す。A:単結合またはアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基よりなる群から選択された単独あるいは2つ以上の組み合わせの置換基を表す。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/38
, C08K 5/36
, C08L 33/14
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/38
, C08K 5/36
, C08L 33/14
, H01L 21/30 502 R
