特許

J-GLOBAL ID：200903025859728500

光学素子の製造方法および光学素子

発明者： 石 崎 剛 司 ,  梅 谷 雅 規
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-324808
公開番号（公開出願番号）：特開2003-131031
出願日： 2001年10月23日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 コレステリック層の選択反射波長帯域を精度良くかつ容易に制御することが可能で、液晶表示装置等に適した光学的安定性および色純度に優れた光学素子を容易に製造することができる、光学素子の製造方法および光学素子を提供する。【解決手段】 配向基板13上に、コレステリック規則性を有する光硬化型のカイラル・ネマチック液晶等からなる液晶層を成膜し、配向基板13の配向規制力により液晶層中の液晶分子を配向させる。そして、配向基板13上に成膜された液晶層に所定の照射量の放射線20を照射して当該液晶層を3次元架橋して硬化させ、半硬化状態のコレステリック層12を形成する。その後、配向基板13上に形成された半硬化状態のコレステリック層12を有機溶媒21に接触させる。これにより、半硬化状態のコレステリック層12が所定の条件で有機溶媒に接触され、最終的に、配向基板13上にコレステリック層12が形成された光学素子10が製造される。

請求項（抜粋）：

配向処理が施された配向基板上に、コレステリック規則性を有する放射線硬化型の液晶層を成膜する工程と、前記配向基板上に成膜された前記液晶層に所定の照射量の放射線を照射して当該液晶層を硬化させ、半硬化状態のコレステリック層を形成する工程と、前記配向基板上に形成された前記半硬化状態のコレステリック層を有機溶媒に接触させる工程とを含み、前記液晶層に照射される放射線の照射量を変えることにより、前記コレステリック層の選択反射波長帯域を制御することを特徴とする、光学素子の製造方法。

IPC (9件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/1335 525 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/38 512

FI (9件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/1335 525 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/38 512

Fターム (46件)：

2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC83 ,  2H025FA12 ,  2H025FA15 ,  2H048BA04 ,  2H048BA64 ,  2H048BB03 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H049BA03 ,  2H049BA17 ,  2H049BA18 ,  2H049BA43 ,  2H049BB01 ,  2H049BC01 ,  2H049BC02 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA14Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC21 ,  2H091FD04 ,  2H091FD06 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA16 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA03 ,  2H096GA60 ,  2H097BB01 ,  2H097FA02 ,  2H097FA05 ,  2H097JA03 ,  2H097LA17