特許
J-GLOBAL ID：200903025862831010
光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-242717
公開番号（公開出願番号）：特開2008-202022
出願日： 2007年09月19日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】新規な光硬化性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を提供する。【解決手段】 重合性不飽和単量体35〜99質量%、光重合開始剤0.1〜15質量%、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%、無機酸化物微粒子を0.1〜50質量%を含む、光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
重合性不飽和単量体35〜99質量%、光重合開始剤0.1〜15質量%、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%、無機酸化物微粒子を0.1〜50質量%を含む、光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C08F2/44 A
, H01L21/30 502D
4J011PA04
, 4J011PA66
, 4J011PA99
, 4J011PB40
, 4J011PC02
, 4J011PC08
, 5F046BA10
