特許

J-GLOBAL ID：200903025879871008

水素吸蔵合金及びその製造方法

発明者： 塚原 誠 ,  高橋 国男 ,  三島 貴弘 ,  磯村 秋人
出願人/特許権者： 株式会社イムラ材料開発研究所
代理人 (1件)： 高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-323513
公開番号（公開出願番号）：特開平8-157998
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】 水素吸蔵・放出によるクラックの発生を抑制することができ,クラック面からの酸化・溶出を抑制することができる水素吸蔵合金及びその製造方法,ならびに水素吸蔵合金電極を提供すること。【構成】 Tia Mb Nic で表され,MはV1-x Nbx ,0.01≦x≦0.25の組成式で表される合金であって,図1に示す三元組成図のA点:Ti10M85Ni5 ,B点:Ti10M70Ni20,C点:Ti30M50Ni20,D点:Ti30M65Ni5 を,順次直線で結ぶことにより囲まれた範囲の組成で表される。かつ,その結晶構造は三次元網目構造を有しない。

請求項（抜粋）：

Tia Mb Nic で表され,MはV1-x Nbx ,0.01≦x≦0.25の組成式で表される合金であって,図1に示す三元組成図のA点:Ti10M85Ni5 ,B点:Ti10M70Ni20,C点:Ti30M50Ni20,D点:Ti30M65Ni5 を,順次直線で結ぶことにより囲まれた範囲の組成(原子%,以下同じ)で表され,かつ,その結晶構造は三次元網目構造を有しないことを特徴とする水素吸蔵合金。

IPC (4件)：

C22C 27/02 101 ,  C22C 1/00 ,  C22C 1/02 501 ,  H01M 4/38