特許

J-GLOBAL ID：200903025887848155

高周波洗浄装置

発明者： 柴 一彦 ,  西澤 久雄 ,  内田 博章
出願人/特許権者： 株式会社プレテック ,  大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-264175
公開番号（公開出願番号）：特開平10-109072
出願日： 1996年10月04日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】 洗浄槽内の洗浄液に浸漬した被洗浄物を高周波音波により洗浄する際の逆汚染等を防止することが可能な高周波洗浄装置を提供するものである。【解決手段】 被洗浄物に対して洗浄を施す洗浄液3が収容された洗浄槽1と、前記洗浄液3に高周波音波を付与する高周波音波付与手段とを具備した高周波洗浄装置において、溶存ガス濃度が制御された洗浄液を生成する洗浄液生成手段9を前記洗浄槽1に連結することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

被洗浄物に対して洗浄を施す洗浄液が収容された洗浄槽と、前記洗浄液に高周波音波を付与する高周波音波付与手段とを具備した高周波洗浄装置において、溶存ガス濃度が制御された洗浄液を生成する洗浄液生成手段を前記洗浄槽に連結することを特徴とする高周波洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 L