特許
J-GLOBAL ID：200903025902058182
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020985
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236856
出願日： 1993年02月09日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】電極構造の簡素化に好適なプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】プラズマ6により処理中のウエハ1を支持する静電吸着電極13とウエハ1の温度を検出する温度センサ16を有するプラズマ処理装置において、石英ファイバ-20とその先端に塗布した測温体である蛍光体21を熱伝導率が高くしかも導電性のNiあるいはAu等の蒸着膜22で被覆して温度センサ16を構成し、さらに蒸着膜22をスイッチ24により接地とフロ-ティングに切り換え可能として温度センサ16を静電吸着用の電極として併用する。
請求項（抜粋）：
プラズマにより処理中のウエハを支持する静電吸着電極とウエハの温度を検出する温度センサを有するプラズマ処理装置において、石英ファイバ-とその先端に塗布した測温体である蛍光体をNiあるいはAu等の蒸着膜で被覆して温度センサを構成し、さらに蒸着膜を接地とフロ-ティングに切り換え可能なようにスイッチを設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23C 14/54
, H01L 21/68
