特許
J-GLOBAL ID：200903025914701676
内包フラーレンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-091039
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314221
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】原子内包フラーレンの形成方法として、修飾基を持たないフラーレンを原料とするプラズマ反応法又はイオン注入法がある。イオン直径が大きな原子を内包する内包フラーレンを形成する場合、これらの方法では内包フラーレンの形成効率が極めて低いという問題があった。【解決手段】フラーレン分子のケージに開口部を形成した開口フラーレンを原料として、原子内包フラーレンを形成することにした。イオン直径の大きな原子を、高い効率でケージ内に内包することが可能になった。イオン直径の小さな原子を内包する場合でも、従来にくらべ内包フラーレンの形成効率が飛躍的に向上した。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
内包原子イオンを含むプラズマ流を堆積基板に向けて照射し、前記プラズマ流中に気体状又は液体状の開口フラーレンを導入して開口フラーレンイオンを生成し、前記内包原子イオンと前記開口フラーレンイオンの反応により、前記堆積基板上に原子内包フラーレン又は原子内包開口フラーレンを含む薄膜を堆積することを特徴とする内包フラーレンの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B31/02 101F
, C23C16/26
4G146AA09
, 4G146AA13
, 4G146AA15
, 4G146AA16
, 4G146BA04
, 4G146BC16
, 4G146CB16
, 4G146CB21
, 4G146DA03
, 4G146DA16
, 4K030FA01
, 4K030LA01
, 4K030LA11
