特許

J-GLOBAL ID：200903025917196786

混合クリーニングガス組成物

発明者： 毛利 勇 ,  藤井 正 ,  小林 義幸
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329679
公開番号（公開出願番号）：特開平6-173012
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：

【要約】【目的】HFガスとClF3 ガスの混合ガスを使用して、アルコキシシランを原料としたCVD法により薄膜形成装置の目的以外の場所に堆積したSiO2 および非完全分解生成物をクリーニング処理する混合ガス組成物を提供する。【構成】CVD法により薄膜形成装置または該装置の治具、配管等に堆積したアルコキシシラン非完全分解生成物およびSiO2 を除去する際、特に式(I)で求められる範囲の混合クリーニングガス組成物とする。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【数1】で示す範囲のHFガスとClF3 ガスを含む混合クリーニングガス組成物。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C09K 13/08 ,  C23F 4/00