特許
J-GLOBAL ID:200903025936221899

大きい及び特大の細孔のホウケイ酸塩ゼオライトにおけるヘテロ原子格子置換方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  安藤 克則 ,  亀岡 幹生
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-526703
公開番号(公開出願番号):特表2004-509044
出願日: 2001年09月12日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
本発明は格子置換ヘテロ原子を有するゼオライトの製造方法を提供する。この方法は、(a)焼成ホウケイ酸塩ゼオライトを酸と接触させ、それによって、少なくとも部分的に脱ホウ素されたゼオライトを生成すること;及び(b)この少なくとも部分的に脱ホウ素されたゼオライトを、アルミニウム塩、ガリウム塩、および鉄塩からなる群から選ばれた一つまたはそれ以上の塩を含む塩含有水溶液と接触させ、それによって、アルミニウム原子、ガリウム原子、鉄原子またはそれらの組合せを含む格子を有するケイ酸塩またはケイ酸塩ゼオライトを生成することを含む。工程(b)は約3.5以下のpHで行われる。好ましくは、工程(a)、工程(b)または両方はほぼ周囲温度から約300°Cまでの温度で、好ましくは、攪拌/タンブリングの下で、行われる。
請求項(抜粋):
(a)焼成ホウケイ酸塩ゼオライトを酸と接触させ、それによって、少なくとも部分的に脱ホウ素されたゼオライトを生成すること;及び (b)この少なくとも部分的に脱ホウ素されたゼオライトを、アルミニウム塩、ガリウム塩、および鉄塩からなる群から選ばれた一つまたはそれ以上の塩を含む塩含有水溶液と接触させ、それによって、アルミニウム原子、ガリウム原子、鉄原子またはそれらの組合せを含む格子を有するケイ酸塩ゼオライトを生成すること; を含み、 工程(b)が約3.5以下のpHで行われる、 格子置換ヘテロ原子を有するゼオライトを製造する方法。
IPC (2件):
C01B39/00 ,  C01B39/02
FI (2件):
C01B39/00 ,  C01B39/02
Fターム (26件):
4G069AA02 ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BC16A ,  4G069BC16B ,  4G069BD03A ,  4G069BD03B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069CC14 ,  4G069FA01 ,  4G069ZA37A ,  4G069ZA37B ,  4G069ZB03 ,  4G069ZB04 ,  4G069ZB08 ,  4G069ZD01 ,  4G073BA56 ,  4G073BB48 ,  4G073CZ55 ,  4G073FB06 ,  4G073FC03 ,  4G073FD01 ,  4G073FD08 ,  4G073FF10 ,  4G073UA01
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特表平5-502009
  • 特表平4-504439

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