特許
J-GLOBAL ID：200903025947501974
プラズマ利用装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 正太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-335109
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224183
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 プラズマの拡散を抑制し、不純物の混入を防ぎ、精度の高い処理を行なうことのできるプラズマ利用装置を提供する。【構成】 プラズマを利用して蒸着、反応、エッチング等の処理を行なう装置において、処理室1を形成する室壁6の内壁面全体にわたって、内壁面近傍の処理室内にイオン衝撃を軽減するミーンフリーパスを大きくする部分を介在させる手段を設けたことを特徴とする。上記ミーンフリーパスを大きくする手段として、内壁面近傍と処理室内との間に一定の圧力差を形成するようにし、上記圧力差形成手段として、室壁6の壁材に多孔質通気性のものを用い、壁材を通してフローガスを吸引又は噴出することにより壁材の内外にガス流を形成するよう構成することが推奨される。
請求項（抜粋）：
プラズマを利用して蒸着、反応、エッチング等の処理を行なう装置において、処理室(1) を形成する室壁(6) の内壁面全体にわたって、内壁面近傍の処理室内にイオン衝撃を軽減するミーンフリーパスを大きくする部分を介在させる手段を設けたことを特徴とするプラズマ利用装置。
IPC (3件)：
H01L 21/31
, H01L 21/205
, H05H 1/46
