特許
J-GLOBAL ID:200903025956489057

半導体製造装置のパラメータ管理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-074589
公開番号(公開出願番号):特開平6-291004
出願日: 1993年03月31日
公開日(公表日): 1994年10月18日
要約:
【要約】【目的】 各装置のレシピ等の主要なパラメータをホストコントローラで一元管理することを可能にする。【構成】 ホストコントローラ1にオンライン接続される複数の装置2a、2b、2c毎に設定される補正パラメータ7を、ホストコントローラ1で、標準パラメータ6と合成する。これにより前記装置2a、2b、2c毎の実行パラメータ8を生成する。前記装置2a、2b、2c毎に、ホストコントローラ1から送られる実行パラメータ8を、各装置2a、2b、2c毎に有する標準レシピ4と合成することにより、実行レシピ5を生成する。
請求項(抜粋):
ホストコントローラとそれにオンライン接続された複数の半導体製造装置側コントローラとを備え、前記ホストコントローラは、標準パラメータと補正パラメータとから、前記各装置側コントローラ毎に実行パラメータを生成するものとして構成され、前記各装置側コントローラは、前記ホストコントローラから送られる前記実行パラメータと、自己が有する標準レシピとから、実行レシピを生成するものとして構成されている、半導体製造装置のパラメータ管理システム。

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