特許

J-GLOBAL ID：200903025959624583

蛍光体の製造方法

発明者： 玉谷 正昭 ,  アルベサール 恵子 ,  松田 直寿 ,  奥村 美和 ,  元木 信二郎 ,  川嵜 一博 ,  横田 誠二
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  高周波熱錬株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-270222
公開番号（公開出願番号）：特開平8-109375
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【目的】 緻密で均質な蛍光面を形成できる球状の蛍光体を製造できる方法を提供する。【構成】 Ln2 O3 :RもしくはLn2 O2 S:R(ただし、LnはLa,Gd,LuおよびYからなる群より選択される少なくとも1種の元素、Rはランタニド族より選択される少なくとも1種の元素)、MWO4 (ただし、MはCaおよびMgのうち少なくとも1種)またはCaWO4 :Pbの組成式で表される蛍光体を製造するに際し、プラズマの平均温度が1600°C以上6500°C以下となるようにアルゴン、ヘリウム、クリプトン、ネオン、キセノン、酸素、窒素、水素またはこれらの2種以上の混合ガスを用いて、雰囲気および高周波エネルギーを所定の如く制御した高温プラズマ中で処理し、平均粒径が0.5〜20μm、個々の粒子の長径と短径との比が1.0〜1.5の範囲の球状にする。

請求項（抜粋）：

Ln2 O3 :RもしくはLn2 O2 S:R(ただし、LnはLa,Gd,LuおよびYからなる群より選択される少なくとも1種の元素、Rはランタニド族より選択される少なくとも1種の元素)、MWO4 (ただし、MはCaおよびMgのうち少なくとも1種)またはCaWO4 :Pbの組成式で表される蛍光体を製造するに際し、プラズマの平均温度が1600°C以上6500°C以下となるようにアルゴン、ヘリウム、クリプトン、ネオン、キセノン、酸素、窒素、水素またはこれらの2種以上の混合ガスを用いて、雰囲気および高周波エネルギーを所定の如く制御した高温プラズマ中で処理し、平均粒径が0.5〜20μm、個々の粒子の長径と短径との比が1.0〜1.5の範囲の球状にすることを特徴とする蛍光体の製造方法。

IPC (4件)：

C09K 11/78 CPB ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/68 CPB ,  C09K 11/84 CPD

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭62-201989
  
• 特開平4-050109
  
• 特開昭61-174107
  
• 超微粒子で表面が被覆された粒子の製造方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-308175   出願人：日清製粉株式会社, 梅屋薫, 株式会社リード
• 特開昭63-278990