特許
J-GLOBAL ID：200903025959784114
寸法測定装置および変位測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-037100
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243815
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 少ないセンサ数の簡単な構成によって、広範囲にわたる高さまたは厚さあるいはこれらの変位を高精度に測定できる測定装置を提供する。【構成】 測定対象物11の表面に対して斜め上方の位置に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光15を順次タイミングを異ならせて照射する投光器13と、測定対象物11の表面に対して垂直上方でかつ投光器13とほぼ同一の高さ位置に配置され、投光器13からの測定用光15の測定対象物11による散乱光16を検出して該散乱光の入射位置に対応した信号を出力するポジショニングセンサ18と、このセンサ18の出力と複数本の測定用光16のうち散乱光15としてポジショニングセンサ18により検出された測定用光の位置とから測定対象物11の高さまたは厚さを求める演算回路21とを有する。
請求項（抜粋）：
測定対象物の表面に対して斜め上方の位置に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光を順次タイミングを異ならせて照射する光照射手段と、前記測定対象物の表面に対して垂直上方でかつ前記光照射手段とほぼ同一の高さ位置に配置され、前記光照射手段からの測定用光の前記測定対象物による散乱光を検出して該散乱光の入射位置に対応した出力を発生する検出手段と、この検出手段の出力と前記複数本の測定用光のうち前記散乱光として前記検出手段により検出された測定用光の位置とから前記測定対象物の高さまたは厚さを求める演算手段とを具備することを特徴とする寸法測定装置。
IPC (3件)：
G01B 11/02
, G01B 11/06
, G01C 3/06
