特許
J-GLOBAL ID:200903025967130484
誘電体膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
武田 元敏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-314743
公開番号(公開出願番号):特開平5-151622
出願日: 1991年11月28日
公開日(公表日): 1993年06月18日
要約:
【要約】【目的】 薄膜内に混入する遊離した酸素分子が少なく、かつ形成された薄膜の組成が化学量論組成となる誘電体膜の製造方法。【構成】 酸化物誘電体ターゲット1は高熱伝導金属材料からなるバッキングプレート2と接着され冷水で冷却している。酸化物誘電体ターゲット1と薄膜を形成する基板を設けた陽極4の間に高周波の電圧を印加する。シャッター7は薄膜形成を調整するために用いられる構成からなる。酸化物誘電体ターゲット1をガス流入口8からアルゴンガスと笑気ガス、あるいはアルゴンガスと笑気ガスとアンモニアガスを流入させ、前記ガスの雰囲気で高周波スパッタリングする。
請求項(抜粋):
酸化物誘電体ターゲットをアルゴンガスと笑気ガスの雰囲気でスパッタリングする誘電体膜の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平3-020458
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特開平3-257020
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特開平2-145762
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