特許

J-GLOBAL ID：200903025968073352

低芳香族留分を製造する為の触媒とその方法

発明者： アペリアン,ロバート ミナス ,  デグナン,ジュニア,トーマス フランシス ,  シー,スチュアート シャン-サン
出願人/特許権者： モービル オイル コーポレーション
代理人 (1件)： 斉藤 武彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-512603
公開番号（公開出願番号）：特表平9-504322
出願日： 1994年08月23日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】本発明は、炭化水素フラクションの接触分解によって生成され、少なくとも149°C(約300°F)の初期沸点と少なくとも30重量%の芳香族成分含有量と12重量%以下の水素含有量と5000ppmw以下の硫黄含有量をもつ、水素化脱硫された芳香族性で、実質的に脱アルキル化された炭化水素原料油を、少なくとも1.3nmの直径をもつ細孔を有し、か焼の後に示すX線回折パターンが相対強度100で1.8nmより大きいd-間隔で少なくとも1のピークをもつ無機非層状多孔性結晶性下に、水素化処理して、10重量%よりも少ない芳香族成分含有量と300ppmwよりも少ない含有量をもつ生成物を放出することよりなる蒸留沸点範囲炭化水素生成物の製造法を提供する。

請求項（抜粋）：

炭化水素フラクションの接触分解によって生成され、少なくとも149°C(約300°F)の初期沸点と少なくとも30重量%の芳香族成分含有量と12重量%以下の水素含有量と5000ppmw以下の硫黄含有量をもつ、水素化脱硫された芳香族性で、実質的に脱アルキル化された炭化水素原料油を、少なくとも1.3nmの直径をもつ細孔を有し、か焼の後に示すX線回折パターンが相対強度100で1.8nmより大きいd-間隔で少なくとも1のピークをもつと共に、少なくとも一つのVIII族金属を含有し且つNa含有量が5000ppmよりも少ない無機非層状多孔性結晶性物質の存在下に、水素化処理して、10重量%よりも少ない芳香族成分含有量と300ppmwよりも少ない含有量をもつ生成物を、30重量%よりも少ない199°C+転化率で、放出させることを特徴とする蒸留沸点範囲炭化水素生成物の製造法。

IPC (3件)：

C10G 45/54 ,  B01J 23/58 ,  C10G 65/08

FI (3件)：

C10G 45/54 ,  B01J 23/58 Z ,  C10G 65/08